廣州常暉電子科技有限公司生產(chǎn)的 CH-MX 漫反射目標(biāo)板的漫反射特性(良好的朗伯特性)使其在較廣范圍的光照條件下
能保持恒定對比度,故 CH-MX 漫反射目標(biāo)板完全適合要求長期暴露在嚴苛環(huán)境條件下的實驗室及野外應(yīng)用。常用于無人機
標(biāo)定、傳感器標(biāo)定、多光譜標(biāo)定、相機標(biāo)定、激光雷達標(biāo)定而進行的現(xiàn)場驗證實驗。
標(biāo)準(zhǔn)的 CH-MX 漫反射目標(biāo)板正常形狀為方形或者圓形,也可定制用于三維目標(biāo)標(biāo)定,有 2%-95%反射率數(shù)十種漫反射涂層可選,其涂層會被我們加工附著在不易形變的面板以及立體結(jié)構(gòu)表面。其每塊 CH-MX 漫反射目標(biāo)板我們都會附帶400-1700nm
波長范圍內(nèi)每隔 5nm 的反射率校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。CH-MX 漫反射目標(biāo)板可構(gòu)建大型實驗室的環(huán)境標(biāo)定,單塊尺寸上限可到 2*2 米,
特點:
? 具有熱和化學(xué)穩(wěn)定性,長時間數(shù)據(jù)穩(wěn)定
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